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어스틴 삼성 반도체, 낸드 300㎜ 팹 공정 하반기 30나노로 전환

김세규
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admin
Date
2009-06-13 02:18
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삼성 어스틴 반도체 공장 (Samsung Austin Semiconductor)



삼성전자가 텍사스주 오스틴에 있는 낸드 메모리 300㎜ 팹의 공정 기술을 40나노급에서 30나노급으로 하반기 전환한다.

수년간 진행된 반도체 업계의 치킨게임이 한국 기업 승리로 종료된 상황에서 낸드 가격이 상승하는 반도체 경기가 바닥을 치자 삼성이 낸드 시장 점유율 경쟁 격차를 벌리려는 시도로 보인다.

21 업계에 따르면 삼성전자 반도체 구매 임원들은 최근 반도체 영업과 마케팅 법인(SSI) 있는 미국 캘리포니아 새너제이에서 노벨러스·리서치·플라이드 머티어리얼스 미국 전공정 반도체 장비 기업과 회의를 가졌다.

구매 임원들은 전공정 반도체 장비 기업과 모임을 마친 미국 텍사스주 삼성오스틴반도체(SAS) 임원과 현지 공장의 공정 기술 전환 계획을 논의한 것으로 알려졌다. 삼성은 오스틴공장에서 D 200㎜ 팹과 낸드 메모리 300㎜ 팹을 가동 중이다.

삼성은 하반기 2000억∼3000억원을 투입해 오스틴 300㎜ 팹의 공정 기술을 30나노급으로 전환, 해외 기지의 낸드 메모리 원가 경쟁력을 한층 제고할 계획이다.

이달 30나노급 낸드 제품 양산에 이은 4분기 오스틴 공장의 30나노급 전환 시도는 1분기 폭의 영업 손실을 입은 외국 경쟁 업체들이 주춤할 삼성이 미세 공정 조기 전환에 나서, 낸드 메모리 시장 지배력을 확고히 다지기 위한 전략으로 풀이된다.

반도체 경기의 불확실성이 제거되지 않은 상황에서 당초 계획했던 오스틴 300㎜ 생산 능력을 5만∼6만장에서 10만장으로 늘리는 증설 투자보다는 공정 전환 기술 투자에 집중하겠다는 의도로도 풀이됐다. 반도체 업계 관계자는 “삼성의 오스틴 300㎜ 30 나노 공정 전환 방침이 최근 결정됐으며, 투자 시점은 34분기가 것”라고 말했다. 삼성전자 측은 “반도체 구매 임원들이 지난주 새너제이를 방문, 장비 업체를 만난 것은 사실”라면서도 “오스틴 공정 전환 투자를 아직 확정하지 않았다”밝혔다.


 
Danawa.com 

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